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For Ag/MG/YB鍍膜清洗流程及輔助臺(tái)車說明
① IQC
對來料的mask進(jìn)行外觀檢查，檢查過程全程錄像，避免雙方確認(rèn)結(jié)果不一致。
強(qiáng)光檢查mask表面是否有折傷、擊傷、劃傷、脫焊等異常。
暗室檢查mask表面是否有臟污，銹斑。
檢查過程中對異常問題進(jìn)行圖示標(biāo)注，郵件發(fā)給客戶進(jìn)行確認(rèn)。
對mask表面進(jìn)行TP、CD兩個(gè)項(xiàng)目的檢測，TP及CD 檢測P各36個(gè)點(diǎn)位。
② 化學(xué)除膜
化學(xué)除膜：將mask平移至自動(dòng)清洗線上，按程序設(shè)定的浸泡時(shí)間進(jìn)行化學(xué)浸泡及DI純水清洗（純水阻值為：＞10MΩ）。
化學(xué)除膜-lif：使用60度熱DI純水浸泡45min，DI純水沖洗2遍后,放入DI純水槽內(nèi)浸泡15分鐘。
化學(xué)除膜-Mg/Ag：使用電子級(jí)雙氧水溶液進(jìn)行化學(xué)除膜，浸泡時(shí)間50min,（每15min檢測槽內(nèi)反應(yīng)狀態(tài)及槽液濃度）。
③ 純水浸泡
使用超聲波震蕩的方法去除mask表面殘留的藥液及微顆粒，確保mask表面潔凈（功率：1200w，頻率：40Hz，時(shí)間15min）。
④ 防銹清洗
對除膜后的mask做IPA沖洗10min以上,確保表面無銹跡殘留。
自動(dòng)清洗線升降速度為5mm/S，左右移動(dòng)速度為10mm/S（程序可設(shè)定為手動(dòng)或自動(dòng)）。
⑤ 烘干
將mask搬運(yùn)至專干燥車上對表面進(jìn)行檢查確認(rèn)，要求無水漬殘留。
暗室內(nèi)強(qiáng)光燈檢查mask表面是否有水印殘留，如有水印可使用純水擦拭，后使用酒精擦干。
將mask固定后放入專用無塵干燥箱內(nèi)，干燥過程禁止打開烘箱，干燥溫度：60±1℃，干燥時(shí)間180min。
干燥箱開啟后充入氮?dú)猓ＷC干燥箱內(nèi)為正壓5-10Mpa。
| Mask缺陷區(qū)域以及定義 | |||||
| 序號(hào) | 區(qū)域 | 說明規(guī)格說明 | 圖示 | ||
| 1 | A區(qū) | Panel矢鍵鍍膜區(qū)域 |
|
||
| 2 | B區(qū) | 對位Mark、設(shè)計(jì)標(biāo)示區(qū)域 | |||
| 3 | C區(qū) | 焊點(diǎn)區(qū)域 | |||
| 4 | D區(qū) | Frame區(qū)域 | |||
| Mask清洗規(guī)格 | |||||
| No | 項(xiàng)目 | 規(guī)格說明 | Recycle前 | Recycle后 | 備注 |
| 1 | TP | <50um | <30um | <30um | / |
| 2 | CD | <50um | <30um | 1.<30um 2. Diff <10um |
/ |
| 3 | 平坦度 | <350um | TBD | 1.<250um 2. Diff< 50um |
/ |
| 序號(hào) | 缺陷 | 說明 | 清洗前 | 清洗后 | |
| 1 | 折傷 | 不允許 | 不允許 | 不允許 | |
| 2 | 擊傷 | A區(qū):不允許 B區(qū):無定義 C區(qū):無定義 D區(qū):無定義 |
A區(qū):不允許B區(qū):無定義 C區(qū):無定義D區(qū):無定義 |
A區(qū):不允許B區(qū):無定義 C區(qū):無定義 D區(qū):無定義 |
|
| 3 | 銹斑 | 不允許 | 允許清理 | 不允許 | |
| 4 | 臟污 | 1.可清除處理者·不計(jì)(風(fēng)槍、酒精擦拭) 2.不可清除者: A/B區(qū):不允許 C/D區(qū):目視不可見 |
1.可清除處理者·不計(jì)(風(fēng)槍、酒精擦拭 2.不可清除者: A/B區(qū):不允許 C/D區(qū):目視不可見 |
1.可清除處理者,不計(jì)(風(fēng)槍、酒精擦 拭) 2.不可清除者: A/B區(qū):不允許C/D區(qū):目視不可見 |
|
| 5 | 劃傷 | 1.無感劃傷: 深度≤5um屬無感刮·不計(jì) | |||
| 2.有感劃傷 | |||||
| 全球潔凈生產(chǎn)設(shè)備服務(wù)的領(lǐng)先企業(yè) | OK | ||||
| 6 | Particle &化 學(xué) 殘?jiān)?/td> | 1.可清除處理者·不計(jì)(風(fēng)槍、酒精擦拭) 2.不可清除者: A/B區(qū):不允許 C/D區(qū):目視不可見 |
NA | 1.可清除處理者·不計(jì)(風(fēng)槍、酒精擦 拭) 2.不可清除者: A/B區(qū):不允許C/D區(qū):目視不可見 |
|
| 7 | 焊點(diǎn) | 焊點(diǎn)不能出現(xiàn)脫焊 | 焊點(diǎn)不能出現(xiàn)脫焊 | 焊點(diǎn)不能出現(xiàn)脫焊 | |
| 8 | TP點(diǎn)、Mark 等標(biāo)示開口堵 塞 |
A區(qū):不允許B區(qū):不允許 C區(qū):無定義D區(qū):無定義 |
A區(qū):不允許B區(qū):不允許 C區(qū):無定義D區(qū):無定義 |
A區(qū):不允許B區(qū):不允許 C區(qū):無定義D區(qū):無定義 |
|
| 9 | 鍍膜殘留 | A區(qū):不允許B區(qū):不允許 C區(qū):無定義D區(qū):無定義 |
NA | A區(qū):不允許B區(qū):不允許 C區(qū):無定義D區(qū):無定義 |
|
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